SprøjtestøbemaskineGMI SHEN FEI
ZQCB
Sprøjtestøbemaskine
GMI SHEN FEI
ZQCB
Startpris uden moms
2.500 €
Produktionsår
2021
Betingelse
Brugt
Beliggenhed
Maasmechelen 

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Oplysninger om maskinen
- Maskinbeskrivelse:
- Sprøjtestøbemaskine
- Fabrikant:
- GMI SHEN FEI
- Model:
- ZQCB
- Produktionsår:
- 2021
- Betingelse:
- næsten som ny (brugt)
- Funktionalitet:
- fuldt funktionsdygtig
Pris og placering
Startpris uden moms
2.500 €
- Beliggenhed:
- Breitwatertraat 22, 3630 Maasmechelen, Belgium

Ring
Detaljer om tilbuddet
- Noterings-id:
- A20692250
- Referencenr.:
- S-IGL-2241
- Sidst opdateret:
- d. 11.02.2026
Beskrivelse
Während spezifische proprietäre Dokumentationen für ein Modell „Shen Fei ZQCB“ in allgemeinen technischen Datenbanken nur begrenzt verfügbar sind, bezieht sich der GWL-1600 ZQCB auf einen Hochtemperatur-Elektrowiderstandsofen der Luoyang Torch Star Furnace Co., Ltd., der spezielle Gasfüll- und Vakuumverfahren für die Werkstoffherstellung nutzt.
Im Kontext der Materialsynthese (z. B. CF-SiCNWs/Al-Verbundwerkstoffe) folgt der ZQCB-Gasfüllprozess einer strengen Abfolge, um eine kontrollierte Atmosphäre sicherzustellen:
Nwjdpfx Aox Dtk Iof Ajc
Kernfunktionen Gasfüllung & Atmosphärenkontrolle
Vakuumieren: Vor der Gaseinleitung wird die Ofenkammer evakuiert, um Umgebungsluft und Verunreinigungen zu entfernen.
Spülen und Beaufschlagen: Nach der Evakuierung wird der Ofen mit einer Schutzatmosphäre – typischerweise Argon (Ar) – auf einen Standarddruck von 0,1 MPa gespült und aufgefüllt.
Schutzatmosphäre: Die Gasfüllung dient dazu, ein inertes Umfeld zu erzeugen und Oxidation während hochtemperierter thermischer Verdampfungs- oder Sinterprozesse zu verhindern.
Technologischer Bezug
Bezieht sich „Shen Fei“ auf den ingenieurs- oder halbleitertechnischen Bereich (z. B. Shen Yi Engineering oder ähnliche Unternehmen), beinhalten Gasfüllsysteme für diese hochreinen Umgebungen typischerweise:
Ultra-Hochrein-Gasversorgung (UHP): Systeme für die Halbleiterindustrie steuern Großmengen von Gasen wie Stickstoff, Helium, Wasserstoff und Argon mit präziser Durchfluss- und Druckregelung.
Automatisierte Spülsequenzen: Moderne Gasschränke nutzen SPS-gesteuerte, automatische Spülvorgänge für sichere Flaschenwechsel und Wartung.
Überwachung und Sicherheit: Diese Systeme verfügen oft über Echtzeit-Überwachung von Druck und Gewicht, Durchflussventile für Überstromschutz sowie automatische Abschaltung bei Alarm.
Typische Komponenten fortschrittlicher Gasfüllsysteme
Komponente Funktion
Massendurchflussregler (MFC) Sorgen für präzisen Gasfluss zwischen 5 cc/min und 250 L/min.
Automatische Umschaltung Wechselt ohne Unterbrechung zwischen primären und sekundären Gasquellen.
Druckregler Reduzieren den Gasquellendruck auf prozessoptimale Spezifikationen.
Gasschränke Belüftete Einhausungen zum Auffangen potenzieller Leckagen sowie Aufnahme von UHP-Verteilersystemen.
Möchten Sie, dass ich gezielt nach technischen Handbüchern zur ZQCB-Ofenserie von Luoyang Torch Star suche, oder interessieren Sie sich für ein anderes „Shen Fei“-Verteilsystem für Gase?
Annoncen blev oversat automatisk, og der kan forekomme nogle oversættelsesfejl.
Im Kontext der Materialsynthese (z. B. CF-SiCNWs/Al-Verbundwerkstoffe) folgt der ZQCB-Gasfüllprozess einer strengen Abfolge, um eine kontrollierte Atmosphäre sicherzustellen:
Nwjdpfx Aox Dtk Iof Ajc
Kernfunktionen Gasfüllung & Atmosphärenkontrolle
Vakuumieren: Vor der Gaseinleitung wird die Ofenkammer evakuiert, um Umgebungsluft und Verunreinigungen zu entfernen.
Spülen und Beaufschlagen: Nach der Evakuierung wird der Ofen mit einer Schutzatmosphäre – typischerweise Argon (Ar) – auf einen Standarddruck von 0,1 MPa gespült und aufgefüllt.
Schutzatmosphäre: Die Gasfüllung dient dazu, ein inertes Umfeld zu erzeugen und Oxidation während hochtemperierter thermischer Verdampfungs- oder Sinterprozesse zu verhindern.
Technologischer Bezug
Bezieht sich „Shen Fei“ auf den ingenieurs- oder halbleitertechnischen Bereich (z. B. Shen Yi Engineering oder ähnliche Unternehmen), beinhalten Gasfüllsysteme für diese hochreinen Umgebungen typischerweise:
Ultra-Hochrein-Gasversorgung (UHP): Systeme für die Halbleiterindustrie steuern Großmengen von Gasen wie Stickstoff, Helium, Wasserstoff und Argon mit präziser Durchfluss- und Druckregelung.
Automatisierte Spülsequenzen: Moderne Gasschränke nutzen SPS-gesteuerte, automatische Spülvorgänge für sichere Flaschenwechsel und Wartung.
Überwachung und Sicherheit: Diese Systeme verfügen oft über Echtzeit-Überwachung von Druck und Gewicht, Durchflussventile für Überstromschutz sowie automatische Abschaltung bei Alarm.
Typische Komponenten fortschrittlicher Gasfüllsysteme
Komponente Funktion
Massendurchflussregler (MFC) Sorgen für präzisen Gasfluss zwischen 5 cc/min und 250 L/min.
Automatische Umschaltung Wechselt ohne Unterbrechung zwischen primären und sekundären Gasquellen.
Druckregler Reduzieren den Gasquellendruck auf prozessoptimale Spezifikationen.
Gasschränke Belüftete Einhausungen zum Auffangen potenzieller Leckagen sowie Aufnahme von UHP-Verteilersystemen.
Möchten Sie, dass ich gezielt nach technischen Handbüchern zur ZQCB-Ofenserie von Luoyang Torch Star suche, oder interessieren Sie sich für ein anderes „Shen Fei“-Verteilsystem für Gase?
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